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选择题-单选题 适中0.65 引用8 组卷187
中国芯片蚀刻技术国际领先。NF3(F元素化合价为-1)进行硅芯片蚀刻时的产物均为气体,在蚀刻物表面不留任何残留物。该反应微观示意图如图,下列说法正确的是

A.物质乙由分子构成B.反应前后氮元素的化合价降低了
C.空气中物质丁的质量分数为78%D.反应生成的丙和丁微粒数之比为1:1
2024·河北·一模
知识点:化学方程式的书写微粒图像的分析及应用化合价代数和的计算与应用空气各成分及其体积分数 答案解析 【答案】很抱歉,登录后才可免费查看答案和解析!