单选题-单选 适中0.65 引用2 组卷172
应用基因工程技术在植株W(2n=40)的染色体组中导入了一个抗虫基因A和一个抗除草剂基因B。植株W自交，子代中既不抗虫也不抗除草剂的植株所占比例为1/16。取植株W某部位的一个细胞放在适宜条件下培养，产生4个子细胞。用荧光分子检测基因A和基因B(基因A、基因B均能被荧光标记)。下列叙述错误的是（ ）
| A．植株W获得抗虫和抗除草剂变异性状，其原理是基因重组 |
| B．若4个子细胞都只含有一个荧光点，则取材部位可能为花药 |
| C．若2个子细胞中含有两个荧光点，则另2个子细胞一定不含荧光点 |
| D．若4个子细胞都含有两个荧光点，则细胞进行了两次有丝分裂 |
22-23高二上·浙江绍兴·期末
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应用基因工程技术将抗虫基因A和抗除草剂基因B成功导入植株W（2N=40）的染色体组中，W自交，F1表现型比例为9：3：3：1。取W某部位的一个细胞放在适宜条件下培养，产生4个子细胞，用荧光分子检测基因A和基因B（基因A、基因B均能被荧光标记）。下列叙述错误的是（ ）
| A．W产生配子的基因型为AB、A、B、0（0代表无相关基因） |
| B．F1既抗虫又抗除草剂的植株中能稳定遗传的占1/9 |
| C．若有的子细胞不含荧光点，则细胞分裂过程中发生过基因重组 |
| D．若4个子细胞都含有两个荧光点，则细胞分裂过程中出现过20个四分体 |
用转基因技术将抗虫基因A和抗除草剂基因B成功导入植株W（2n=40）的染色体组中。植株W自交，子代中既不抗虫也不抗除草剂的植株所占比例为1/16。取植株W某部位的一个细胞放在适宜条件下培养，产生4个子细胞。用荧光分子标记追踪基因A和B（基因A和B均能被荧光标记）。下列叙述不正确的是（ ）
| A．若某细胞有4个荧光点，则可能是处于减数第二次分裂细胞 |
| B．若4个子细胞都含有2个荧光点，则取材部位可能为根尖分生区 |
| C．若4个子细胞分别含1、1、1、1个荧光点，则细胞分裂过程中没出现过四分体 |
| D．若4个子细胞分别含2、1、1、0个荧光点，则细胞分裂过程中发生过基因重组 |
研究人员应用基因工程技术分别将抗虫基因X和抗除草剂基因Y成功导入植株M的染色体组中。让植株M自交，子代中既不抗虫也不抗除草剂的植株所占比例为1/16。取植株M某部位的一个细胞置于适宜条件下培养，基因X和基因Y均被荧光标记，在无突变的情况下分裂产生了4个子细胞。用荧光分子检测只被荧光标记的基因X和基因Y。下列叙述正确的是（ ）
| A．植株M中基因X和基因Y可能位于一对同源染色体上 |
| B．若4个子细胞都只含有1个荧光点，则这4个子细胞一定来自同一个母细胞 |
| C．若4个子细胞中有2个不含荧光点，则该细胞可能经历了2次有丝分裂 |
| D．若4个子细胞都含有2个荧光点，则该细胞分裂过程中发生过基因重组 |
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