单选题-单选 较难0.4 引用1 组卷317
应用基因工程技术将抗虫基因A和抗除草剂基因B成功导入植株W(2n=40)的染色体组中、植株W自交,子代中既不抗虫也不抗除草剂的植株所占比例为1/16。取植株W某部位的一个组胞放在适宜条件下培养,产生4个子细胞。用荧光分子检测基因A和基因B(基因A、基因B均能被荧光标记)。下列叙述正确的是( )
A.植株W获得抗虫和抗除草剂变异性状,其原理是染色体变异 |
B.若有的子细胞不含荧光点,则细胞分裂过程中发生过基因重组 |
C.若4个子细胞都只含有一个荧光点,则取材部位为根尖分生区 |
D.若4个子细胞都含有两个荧光点,则细胞分裂过程中出现过20个四分体 |
22-23高三上·江苏徐州·阶段练习
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应用基因工程技术将抗虫基因A和抗除草剂基因B成功导入植株W(2N=40)的染色体组中,W自交,F1表现型比例为9:3:3:1。取W某部位的一个细胞放在适宜条件下培养,产生4个子细胞,用荧光分子检测基因A和基因B(基因A、基因B均能被荧光标记)。下列叙述错误的是( )
A.W产生配子的基因型为AB、A、B、0(0代表无相关基因) |
B.F1既抗虫又抗除草剂的植株中能稳定遗传的占1/9 |
C.若有的子细胞不含荧光点,则细胞分裂过程中发生过基因重组 |
D.若4个子细胞都含有两个荧光点,则细胞分裂过程中出现过20个四分体 |
用转基因技术将抗虫基因A和抗除草剂基因B成功导入某植株细胞(2n=40)的染色体组中,随后将该细胞培养成植株Y。植株Y自交,子代中既不抗虫也不抗除草剂的植株约占1/16。取植株Y某部位的一个细胞放在适宜条件下培养,产生4个子细胞。用荧光分子标记追踪基因A和B(基因A和B均能被荧光标记,且培养过程中不发生突变)。下列叙述不正确的是
A.若4个子细胞分别含2、2、2、2个荧光点,则该细胞含有同源染色体 |
B.若某后期细胞有3个荧光点,其产生原理与植株Y 获得抗虫基因和抗除草剂基因的原理相同 |
C.若4个子细胞分别含1、1、1、1个荧光点,则取材部位可能为根尖分生区 |
D.若4个子细胞分别含2、1、1、0个荧光点,则细胞分裂过程中出现过四分体 |
用转基因技术将抗虫基因A和抗除草剂基因B成功导入某植株细胞(2n=40)的染色体组中,随后将该细胞培养成植株Y。植株Y自交,子代中既不抗虫也不抗除草剂的植株约占1/16。取植株Y某部位的一个细胞放在适宜条件下培养,产生4个子细胞。用荧光分子标记追踪基因A和B(基因A和B均能被荧光标记,且培养过程中不发生基因突变)。下列叙述正确的是( )
A.含4个荧光点的细胞中一定含有同源染色体 |
B.该培养过程中不可能出现含3个荧光点的细胞 |
C.若每个子细胞都含2个荧光点,则其取材部位很可能为根尖分生区 |
D.若其中1个子细胞含0个荧光点,则与其同时产生的子细胞含0个荧光点 |
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