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解答题-原理综合题 较难0.4 引用5 组卷404
甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅()是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:
(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产时伴随发生的反应有:


以硅粉和氯化氢气体生产的热化学方程式是_______________________
(2)工业上可用四氯化硅和氢化铝锂()制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为_________________________________________________
(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的催化剂,在不同反应温度下测得的转化率随时间的变化关系如图所示。

时,平衡转化率为_________。该反应是__________反应(填“放热”或“吸热”)。
时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的措施有________________________。(答一种即可)
③比较a、b处反应速率的大小:_______________(填“>”“<”或“=”)。已知反应速率分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在___________(保留3位小数)。
2020·四川绵阳·二模
知识点:盖斯定律的应用影响化学反应速率的因素化学平衡的移动及其影响因素化学平衡的有关计算 答案解析 【答案】很抱歉,登录后才可免费查看答案和解析!
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甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域,三氯氢硅(SiHCl3)是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题:
(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有:
Si(s)+4HCl(g)=SiCl4(g)+2H2(g) H=-241kJ/mol
SiHCl3(g)+HCl(g)=SiCl4(g)+H2(g) H=-31kJ/mol
以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是 ___
(2)铝锂形成化合物LiAlH4既是金属储氢材料又是有机合成中的常用试剂,遇水能得到无色溶液并剧烈分解释放出H2,请写出其水解反应化学方程式____。LiAlH4在化学反应中通常作_______(填“氧化”或“还原”)剂。工业上可用四氯化硅和氢化铝锂(LiAlH4)制甲硅烷,反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为 _________
(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g)SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤,此反应采用一定量的PA100催化剂,在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。

①353.15K时,平衡转化率为____,该反应是____反应(填“放热”“吸热”)。
②323.15K时,要缩短反应达到平衡的时间,可采取的最佳措施是____
(4)比较a、b处反应速率的大小:Va___Vb(填“>”“<”或“=”)。已知反应速率V=K1x2SiHCl3,V=K2xSiH2Cl2xSiCl4K1K2分别是正、逆反应的速率常数,与反应温度有关,x为物质的量分数,则在353.15K时K1/K2____(保留3位小数)。
(5)硅元素最高价氧化物对应的水化物是H2SiO3,室温下,0.1mol/L的硅酸钠溶液和0.1mol/L的碳酸钠溶液,碱性更强的是 ___,其原因是____。已知:H2SiO3 :Ka1=2.0×10-10Ka2=2.0×10-12、H2CO3 Ka1=4.3×10-7Ka2=5.6×10-11

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