聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如下：
   
   
已知：①R₁、R₂均为烃基
② 合成路线中A→B是原子利用率为100%的反应
回答下列问题：
（1）A的名称是_______________；F→G的反应类型为_____________。
（2）C→D的化学反应方程式为_____________________________。
（3）E的结构简式为_____________；H的顺式结构简式为_______________。
（4）写出同时满足下列条件的G的同分异构体结构简式_________________。
①属于芳香族化合物；②能与NaOH溶液发生反应；③核磁共振氢谱有4种吸收峰
（5）参照上述合成路线和相关信息，以乙烯和乙醛为原料(无机试剂任选)合成有机物   ,设计合成路线为：________________________。