单选题 适中0.65 引用9 组卷939
由SiO2制备高纯度硅的工业流程如图所示：
下列说法错误的是
下列说法错误的是
| A．SiO2与纯硅都是硬度大、熔沸点高的晶体 |
| B．X为CO气体 |
| C．反应②产生的H2与反应③产生的HCl可以循环使用 |
| D．反应①②③均为在高温条件下的非氧化还原反应 |
18-19高一上·浙江宁波·期末
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制备高纯硅的工业流程如图所示：
气体
的摩尔质量为
由
制备高纯度硅的工业流程如图所示：
制备高纯度硅的工业流程如图所示：
| A．硅元素在自然界中均以化合态形式存在 |
| B．由步骤①中的反应可知，碳的非金属性比硅强 |
C．反应②产生的 与反应③产生的 可以循环使用 |
| D．反应①②③均为在高温或较高温度下的氧化还原反应 |
制造芯片的高纯硅可以用下述方法制取(反应条件略)。下列说法不正确的是
| A．SiO2和SiCl4中Si的化合价均为+4 |
| B．反应①、②、③均为氧化还原反应 |
| C．SiO2制粗硅过程中产生的气体X可以用澄清石灰水检验 |
| D．利用二氧化硅还可生产光导纤维 |
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