高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下列是高聚物H的一种合成路线：

已知：①RCHO+R₁CH₂COOH+H₂O；
②由B生成C的反应属于加聚反应；
③D属于高分子化合物。
请回答下列问题：
(1)X生成Y的条件是________；E的分子式为______。
(2)芳香烃I与A的实验式相同，经测定I的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积之比为1∶1∶2∶2∶2，则I的结构简式为_______。推测I可能发生的反应类型是__________(写出1种即可)。
(3)由E生成F的化学方程式为______________。
(4)D和G反应生成H的化学方程式为_____________。
(5)G的同分异构体中，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有_______种(不考虑立体异构)。
(6)参照上述合成路线，以对二甲苯和乙酸为原料(无机试剂任选)，设计制备的合成路线_____________________。