高分子化合物M()和高分子化合物J用途广泛。其合成路线如下图所示：已知：①②CH3CHO+HCHOHOH2C-CH2-CHO③CH3CHO+HCHOCH2=CH-组卷网

解答题-有机推断题适中0.65 引用1 组卷169

高分子化合物M(

)和高分子化合物J用途广泛。其合成路线如下图所示：

已知：①

②CH₃CHO+HCHO

HOH₂C-CH₂-CHO
③CH₃CHO+HCHO

CH₂=CH-CHO+H₂O
回答下列问题：
（1）有机物C的名称是___________________。
（2）D到E和E到F的反应类型分别是__________________、______________________。
（3）有机物L 的结构简式为______________________。
（4）控制反应条件保证H 中醛基不被氧化，H 与I发生缩聚反应得到高聚物J 的化学方程式为___________________________________________。
（5）有机物F 的催化氧化产物满足下列条件的同分异构体有_______种；其中核磁共振氢谱有4 组峰的结构简式为____________________；
①含有苯环 ②能够发生银镜反应 ③与FeCl₃溶液不发生显色反应
（6）根据本题的条件设计用

、CH₃Cl、CH₃CH₂CHO 合成

的路线。___________________

2018·安徽·一模

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知识点：含有苯环的化合物的命名同分异构体的数目的确定根据题给物质选择合适合成路线多官能团有机物的结构与性质答案解析【答案】很抱歉，登录后才可免费查看答案和解析！

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[有机化学基础]用乙烯、甲苯、E三种原料合成高分子药物M和有机中间体L的路线如下：

III ．有机物L是一种六元环酯，M的分子式是(C₁₅H₁₆O₆)_n
（1）C中含氧官能团的名称________________，D的结构简式_______________。
（2）E在KMO₄/OH^-中转化成F，F的结构简式_________________,H→J的反应类型______________。
（3）H→L的化学反应方程式是_________________________。
（4）K→M属于加聚反应，K的结构简式是__________________。
（5）写出一定量的C与足量NaOH溶液反应的化学方程式________________。
（6）写出一种符合下列条件的C的同分异构体的结构简式_______________。
① 属于芳香族化合物；②能发生银镜反应；③ 遇FeCl₃溶液能发生显色反应；④ 核磁共振氢谱有4组峰，且峰面积之比为l:l:2:2

)可应用于面膜、护肤膏霜和精华素中。其中一种合成R的路线如下：

回答下列问题：
（1）A的化学名称是___________，C→D的反应类型是___________。
（2）E的结构简式是__________，其核磁共振氢谱共有_________组峰。
（3）J中的含氧官能团的名称是___________。
（4）G→H的化学方程式为_________________。
（5）M是F的同分异构体，同时符合下列条件的M的结构有___种（不考虑立体异构）。
①能与FeCl₃溶液发生显色反应 ②能发生银镜反应
（6）设计以丙烯和1，3-丙二醛为起始原料制备

的合成路线___（无机试剂任选）。

有机物L是某药物的中间体，一种合成L的路线如图：

已知：
Ⅰ．C和D所含官能团相同。
Ⅱ．

请回答下列问题：
(1)B的名称是_______；F中的官能团名称是_______。
(2)J→K的反应类型是_______。
(3)写出C+D→E的化学方程式_______。
(4)H的结构简式为_______。
(5)M是F的同分异构体，同时满足下列条件的M的结构(不考虑立体异构)有_______种。
①遇FeCl₃溶液发生显色反应 ②能发生银镜反应 ③除苯环外不含其他环
(6)结合题目所给信息，设计由CH₂=CH₂和OHCCHO合成

的合成路线(无机试剂任选)_______。

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