高聚物的合成与结构修饰是制备具有特殊功能材料的重要过程。下图是合成具有特殊功能高分子材料W()的流程：已知：(R、R1、R2代表烃基)I、RCH2OHII、⑴反-组卷网

解答题-有机推断题较难0.4 引用5 组卷519

高聚物的合成与结构修饰是制备具有特殊功能材料的重要过程。下图是合成具有特殊功能高分子材料W(

)的流程：

已知：(R、R₁、R₂代表烃基)
I、

RCH₂OH
II、

⑴反应①的反应类型是_______________。
⑵反应②是取代反应，其化学方程式是___________________________________________。
⑶D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1:3，不存在顺反异构。D的结构简式是______。
⑷反应⑤的化学方程式是__________________________________________________。
⑸G的结构简式是__________________。
⑹反应⑥的化学方程式是__________________________________________________。
⑺工业上也可用

合成E。由上述①~④的合成路线中获取信息，完成下列合成路线（箭头上注明试剂和反应条件，

不易发生取代反应）__________________

17-18高三上·北京西城·期末

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知识点：有机物的合成有机物的推断多官能团有机物的结构与性质有机推断综合考查答案解析【答案】很抱歉，登录后才可免费查看答案和解析！

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下图是合成具有特殊功能高分子材料W(

(R₁、R₂、R₃代表烃基)
(1)②是取代反应，其化学方程式是________。
(2)D的核磁共振氢谱中有两组峰且面积之比是1:3，不存在顺反异构。D的结构简式是_____。
(3)⑤的化学方程式是________。
(4)G的结构简式是________。
(5)⑥的化学方程式是________。

下图是工业上以有机物A、E为基本原料制备有机物M的一种合成路线．A能与Na₂CO₃溶液及溴水反应，且1molA最多可与2molBr₂反应；B的苯环上有四种不同化学环境的氢原子；E、F均是芳香烃；M是一种具有特殊香气的物质．

HCl+R₁COOR
③

④酚羟基易被高锰酸钾酸性溶液、浓硝酸等氧化
回答下列问题：
（1）在F的同系物中，相对分子质量最小的物质是_______________(填名称)；C中含氧官能团的名称为_______________；
（2）A的结构简式为_______________ ；E→F的反应类型为_______________；
（3）D+G→M的化学方程式为_______________；
（4）C的同分异构体中能同时满足下列条件的共有_______________种(不含立体异构)；
①遇FeCl₃溶液发生显色反应 ②能发生水解反应
其中核磁共振氢谱显示为5组峰，且峰面积比为2:2:2:1:1的是_______________(写结构简式)．
（5）参照有机物M的上述合成路线，设计一条由

和(CH₂)₃CCl为起始原料制备

的合成路线下图是工业以有机物A、E为原料制备有机物M的一种合成路线_______________。

有机化合物E具有良好的靶标识别性能，在精准治疗方面具有重要作用。其合成路线如下：

已知：与羰基相连的碳原子上的H容易与卤代烃发生取代反应。
回答下列问题。
(1)B中官能团的名称是_______。
(2)

的名称是_______。
(3)反应②的化学方程式为_______。
(4)反应④的反应类型为_______。
(5)化合物G是D的同分异构体，且符合下列条件：
①属于芳香族化合物
②可以与FeCl₃溶液发生显色反应
③核磁共振氢谱有4组峰，面积比为3∶2∶2∶1
写出G的一种结构简式_______。

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