解答题-无机推断题 较难0.4 引用4 组卷329
A、B、C、D、E、F、G是原子序数依次增大的短周期主族元素,A的原子核内无中子,B、F在元素周期表中的相对位置如图,B与氧元素能形成两种无色气体,D是地壳中含量最多的元素,E是地壳中含量最多的金属元素。
(1)BF2的结构式为____________ 。
(2)D和F的氢化物中沸点较高的是______________ (填化学式)。
(3)实验室制取G2气体的离子方程式为_____________________________________________ 。
(4)在微电子工业中,C的最简单气态氢化物的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境,其化学方程式为_________________________________________________________ 。
(5)FD2气体通入BaCl2和C的最高价氧化物对应的水化物的混合溶液中,生成白色沉淀和无色气体,有关反应的离子方程式为__________________________________________________________ 。
(6)火箭使用B2A8C2作燃料,N2O4为氧化剂,燃烧放出的巨大能量能把火箭送入太空,并且产生三种无污染的气体,其化学方程式为__________________________________________________________ 。
(7)上述元素可组成盐Q:CA4E(FD4)2。向盛有20 mL 0.5 mol/L Q溶液的烧杯中加入12 mL 2.0 mol/L Ba(OH)2溶液,充分反应后,溶液中产生沉淀的物质的量为________ 。
B | ||
F |
(2)D和F的氢化物中沸点较高的是
(3)实验室制取G2气体的离子方程式为
(4)在微电子工业中,C的最简单气态氢化物的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境,其化学方程式为
(5)FD2气体通入BaCl2和C的最高价氧化物对应的水化物的混合溶液中,生成白色沉淀和无色气体,有关反应的离子方程式为
(6)火箭使用B2A8C2作燃料,N2O4为氧化剂,燃烧放出的巨大能量能把火箭送入太空,并且产生三种无污染的气体,其化学方程式为
(7)上述元素可组成盐Q:CA4E(FD4)2。向盛有20 mL 0.5 mol/L Q溶液的烧杯中加入12 mL 2.0 mol/L Ba(OH)2溶液,充分反应后,溶液中产生沉淀的物质的量为
15-16高三上·重庆·阶段练习
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A、B、C、D、E、F是原子序数依次增大的短周期主族元素,A、E在元素周期表中的相对位置如图,A与氧元素能形成两种无色气体,C是地壳中含量最多的元素,D是地壳中含量最多的金属元素。
(1)C在元素周期表中的位置为______ ,其离子的结构示意图为______ 。
(2)AE2的电子式为______ 。
(3)元素B与氢元素能形成含有18个电子的分子,其中含有的化学键有______ 、______ 。
(4)A、B、C最简单氢化物的稳定性由强到弱的顺序是______ (填分子式)。
(5)实验室制取F2气体的离子方程式为______ 。
(6)在微电子工业中,B的最简单气态氢化物的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境,其化学方程式为______ 。
(7)DF3的水溶液可作净水剂,写出有关的离子方程式______ 。
A | ||
E |
(2)AE2的电子式为
(3)元素B与氢元素能形成含有18个电子的分子,其中含有的化学键有
(4)A、B、C最简单氢化物的稳定性由强到弱的顺序是
(5)实验室制取F2气体的离子方程式为
(6)在微电子工业中,B的最简单气态氢化物的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境,其化学方程式为
(7)DF3的水溶液可作净水剂,写出有关的离子方程式
A、B、C、D、E、F是原子序数依次增大的短周期主族元素,A、E在元素周期表中的相对位置如图,A与氧元素能形成两种无色气体,C是地壳中含量最多的元素,D是地壳中含量最多的金属元素。
(1)C在元素周期表中的位置为____ 。
(2)AE2的电子式为___ 。
(3)C、E、F的单质沸点最低的是__ (填化学式)。
(4)C、D、E、F的离子半径由大到小的顺序是___ (填离子符号)。
(5)实验室制取F2气体的离子方程式为___ 。
(6)在微电子工业中,B的最简单气态氢化物的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境,其化学方程式为____ 。
A | ||
E |
(2)AE2的电子式为
(3)C、E、F的单质沸点最低的是
(4)C、D、E、F的离子半径由大到小的顺序是
(5)实验室制取F2气体的离子方程式为
(6)在微电子工业中,B的最简单气态氢化物的水溶液可作刻蚀剂H2O2的清除剂,所发生反应的产物不污染环境,其化学方程式为
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