按照要求填空(1)书写下列反应的化学方程式①用FeCl3溶液作为腐蚀液刻制铜印刷电路板_______；②工业上粗硅的制取：_______(2)与量有关的离子方程-组卷网

填空题较易0.85 引用1 组卷539

按照要求填空
(1)书写下列反应的化学方程式
①用FeCl₃溶液作为腐蚀液刻制铜印刷电路板_______；
②工业上粗硅的制取：_______
(2)与量有关的离子方程式书写
①Ba(OH)₂溶液与NaHSO₄溶液反应后溶液呈中性的离子方程式_______；
② Ca(HCO₃)₂溶液与少量NaOH溶液反应的离子方程式_______；
③Al₂(SO₄)₃溶液与过量NaOH溶液反应的离子方程式_______；

15-16高一上·天津静海·阶段练习

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知识点：离子反应的发生及书写硅的制备铝盐与强碱溶液反应印刷电路板答案解析【答案】很抱歉，登录后才可免费查看答案和解析！

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下列离子方程式书写正确的是

A．Na₂S₂O₃溶液滴入盐酸中：

B．利用覆铜板制作印刷电路板：

C．Cl₂与热的NaOH溶液反应制取NaClO₃：

D．向Ca(ClO)₂溶液中通入少量SO₂：

书写下列反应的离子方程式
①NaOH溶液和H₂SO₄溶液：______；
②NaCl溶液和AgNO₃溶液：______；
③Ba(OH)₂溶液和H₂SO₄溶液：_____；
④Fe与CuSO₄溶液反应：______；
⑤Na₂CO₃溶液与Ca(OH)₂溶液反应：_______。

下列化学反应对应的离子方程式书写正确的是

A．用FeCl₃溶液腐蚀印刷电路板：Fe³⁺+Cu=Fe²⁺+Cu²⁺

B．醋酸溶液和大理石反应：CaCO₃+2H⁺=Ca²⁺+H₂O+CO₂↑

C．NH₄Al(SO₄)₂溶液中滴加少量的NaOH：NH₄⁺+OH^－=NH₃·H₂O

D．向Na₂S₂O₃溶液中加入稀硫酸：

+2H⁺= SO₂↑+S↓+ H₂O

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