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解答题-有机推断题 适中0.65 引用1 组卷147
春季早晚温差大,空气中花粉多,是湿疹的高发季节,本维莫德(G)是治疗湿疹的非激素类外用药,其合成路线如下:

其中:—Ph为苯基()。

(1)G物质中含氧官能团的名称是______
(2)下列有关说法正确的是______
Ⅰ.B物质核磁共振氢谱有3组吸收峰,其峰面积之比为1∶1∶2;
Ⅱ.1mol A最多可以与1mol的反应,最多可以消耗3mol的反应;
Ⅲ.1mol A中含有键,室温下,在水中的溶解度A比B大;
Ⅳ.G物质与足量加成产物中有4个手性碳原子,G物质中C原子的杂化类型:
(3)合成路线中设置A到B,将A中酚羟基变为醚键的目的是____________
(4)Y的分子式为,其结构简式为____________,欲确定中存在C—O和O—H化学键,可采取的仪器分析方法为______(填选项)。
A.核磁共振氢谱             B.质谱             C.红外光谱             D.原子发射光谱
(5)B的一种同分异构体同时满足下列条件,写出该同分异构体的结构简式____________
Ⅰ.碱性条件下水解后酸化生成两种产物。
Ⅱ.一种产物含有苯环,其核磁共振氢谱只有3组峰,且峰面积之比为1∶2∶1,不能与溶液显色;
Ⅲ.另一种产物能与银氨溶液反应,被氧化为碳酸后分解生成二氧化碳和水。
(6)写出以为原料制备的合成路线流程图______________(须用,无机试剂和有机溶剂任用,合成路线流程图示例见本题题干)。
23-24高二下·江苏盐城·期中
知识点:有机反应类型根据要求书写同分异构体根据题给物质选择合适合成路线多官能团有机物的结构与性质 答案解析 【答案】很抱歉,登录后才可免费查看答案和解析!
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光刻胶是大规模集成电路、印刷电路版和激光制版技术中的关键材料,某一光刻胶M的合成路线如下: (部分试剂、反应条件和产物已略去)

已知:
Ⅰ.(R1,R2为烃基或氢)
Ⅱ. (R1,R2为烃基)
(1)写出A的结构简式______,B分子中的含氧官能团的名称为_______________
(2)写出B与银氨溶液发生反应的化学方程式____________________________________
(3)下列有关光刻胶M的说法正确的是______________________(填字母序号)。
a.可稳定存在于碱性溶液中
b.化学式为C11H10O2
c.可发生氧化反应、还原反应、取代反应
d. 1mol该物质与足量H2发生加成反应时可消耗4mol H2
(4)乙炔和羧酸X发生加成反应生成E,E的核磁共振氢谱有三组峰,且峰面积比为3:2:1, E能使溴水褪色且能发生水解反应,则F的结构简式为________________________
(5)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体还有______种(不考虑立体异构);C的另一种同分异构体满足下列条件:①能发生银镜反应和水解反应,其水解产物之一能与FeCl3溶液发生显色反应②苯环上的一氯取代产物只有两种,写出该同分异构体的结构简式:_________
(6)根据已有知识并结合相关信息,写出以CH3CHO为原料制备CH3CH2CH2COOH的合成路线流程图_______________________(无机试剂任意选用),合成路线流程图示例如下: CH3CH2Br CH3CH2OHCH3COOCH2CH3

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