解答题-有机推断题 较难0.4 引用1 组卷76
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):已知:_______ 。
(2)羧酸X的结构简式为_______ 。
(3)C物质可发生的反应类型为_______ (填字母序号)。
a.加聚反应 b.酯化反应 c.还原反应 d.缩聚反应
(4)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为_______ 。
(5)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为_______ 。
(6)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种,其结构简式分别为_______ 、_______ 、_______ 和 _______ 。
(7)D和G反应生成光刻胶的化学方程为_______ 。
Ⅰ.(R,R′为烃基或氢)
Ⅱ.(R,R′为烃基)
(1)A分子中含氧官能团名称为(2)羧酸X的结构简式为
(3)C物质可发生的反应类型为
a.加聚反应 b.酯化反应 c.还原反应 d.缩聚反应
(4)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为
(5)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为
(6)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种,其结构简式分别为
(7)D和G反应生成光刻胶的化学方程为
21-22高二下·北京海淀·期中
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