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解答题-有机推断题 较难0.4 引用1 组卷76
光刻胶是一种应用广泛的光敏材料,其合成路线如下(部分试剂和产物略去):

已知:

Ⅰ.(R,R′为烃基或氢)

Ⅱ.(R,R′为烃基)

(1)A分子中含氧官能团名称为_______
(2)羧酸X的结构简式为 _______
(3)C物质可发生的反应类型为_______ (填字母序号)。
a.加聚反应       b.酯化反应       c.还原反应       d.缩聚反应
(4)B与Ag(NH3)2OH反应的化学方程式为_______
(5)乙炔和羧酸X加成生成E,E的核磁共振氢谱为三组峰,且峰面积比为3:2:1,E能发生水解反应,则E的结构简式为_______
(6)与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种,其结构简式分别为____________________________
(7)D和G反应生成光刻胶的化学方程为 _______
21-22高二下·北京海淀·期中
知识点:根据要求书写同分异构体羧酸酯化反应多官能团有机物的结构与性质有机推断综合考查 答案解析 【答案】很抱歉,登录后才可免费查看答案和解析!
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