氢氟酸是常见的刻蚀剂，刻蚀玻璃时发生的反应为，下列有关说法错误的是A．的电离方程式为B．的模型为C．的电子式为D．的空间填充模型为-组卷网

单选题较易0.85 引用2 组卷103

氢氟酸是常见的刻蚀剂，刻蚀玻璃时发生的反应为

，下列有关说法错误的是

A．的电离方程式为	B．的模型为
C．的电子式为	D．的空间填充模型为

23-24高二下·安徽滁州·期中

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知识点：电子式的书写与判断电离方程式价层电子对互斥理论的应用答案解析【答案】很抱歉，登录后才可免费查看答案和解析！

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是微电子工业中常用的等离子刻蚀气体，遇水发生反应：

。下列有关说法错误的是

A．第一电离能：N＞F＞H	B．电负性：F＞N＞H
C．基态N原子的电子排布式为	D．、HF分子间均能形成氢键

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