解答题-工业流程题 适中0.65 引用1 组卷63
氧化镁在医药、建筑等行业应用广泛。以菱镁矿(主要成分为
,另含少量杂质
、
)为原料制备高纯氧化镁的工艺流程如下:
已知:
完全沉淀的pH为3.2。
回答下列问题:
(1)“酸溶”时,
与稀硫酸反应的离子方程式为_____ 。
(2)“滤渣1”为_____ (填化学式)。
(3)“氧化”过程中发生反应的离子方程式为_____ 。
(4)“煅烧”过程中,同时存在以下三个反应:
![](https://staticzujuan.xkw.com/quesimg/Upload/formula/d212dd5d775b265f7afb717341a200e1.svg)
![](https://staticzujuan.xkw.com/quesimg/Upload/formula/06dc50f880d62b43b36f37e4fdd924c6.svg)
![](https://staticzujuan.xkw.com/quesimg/Upload/formula/55e5857141aba04bcfebf9692c870588.svg)
利用下图装置对煅烧产生的气体进行连续分别吸收或收集(其中S蒸气在A管中沉积)。
①B中盛放的溶液是酸性高锰酸钾溶液(足量),发生反应的离子方程式为_____ 。
②在清洗A管中沉积S时,通常用热的浓NaOH溶液,反应中S歧化生成
和
。写出反应的化学方程式并用“双线桥”表示电子转移的方向和数目:_____ 。
③要使D中只收集到一种气体,则C中盛放的试剂是_____ (填标号)。
a.浓NaOH溶液 b.澄清石灰水 c.浓硫酸 d.饱和NaCl溶液
④D中收集的气体是_____ (填化学式)。
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已知:
回答下列问题:
(1)“酸溶”时,
(2)“滤渣1”为
(3)“氧化”过程中发生反应的离子方程式为
(4)“煅烧”过程中,同时存在以下三个反应:
利用下图装置对煅烧产生的气体进行连续分别吸收或收集(其中S蒸气在A管中沉积)。
![](https://img.xkw.com/dksih/QBM/editorImg/2023/10/23/eced1894-0ffa-4b37-850d-1a27c1209cb4.png?resizew=309)
①B中盛放的溶液是酸性高锰酸钾溶液(足量),发生反应的离子方程式为
②在清洗A管中沉积S时,通常用热的浓NaOH溶液,反应中S歧化生成
③要使D中只收集到一种气体,则C中盛放的试剂是
a.浓NaOH溶液 b.澄清石灰水 c.浓硫酸 d.饱和NaCl溶液
④D中收集的气体是
23-24高三上·河南·阶段练习
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