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解答题-有机推断题 适中0.65 引用1 组卷164
完成下列问题。
(1)为以下转换提供关键中间体___________。

(2)依据所给信息，画出两个中间产物和最终产物的结构式___________、___________，并画出前两步转换的关键中间体___________。
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知识点：逆合成分析法有机合成综合考查有机化学 答案解析 【答案】很抱歉，登录后才可免费查看答案和解析！
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PETG是一种新型材料，可回收利用，对环境不构成任何威胁，其结构简式如下：，已知：RCOOR1＋R2OH―→RCOOR2＋R1OH(R、R1、R2表示烃基)。采用如下图所示的合成路线可合成PETG：

试回答下列问题：
（1）试剂X为______________；反应⑦的反应类型为_______________。
（2）写出物质H的名称________________________。
（3）写出结构简式： I_____________________________。
（4）写出反应⑤的化学方程式：_________________________________________。
（5）合成时应控制的单体的物质的量n (D)∶n (F)∶n (H)＝__________(用m、n表示)。
（6）同时符合下列要求的物质H的同分异构体共有__________种。
①遇FeCl3溶液显紫色；②能与NaHCO3溶液反应，并有气体放出；③能发生银镜反应。   
（7）已知：，请写出由D及其它必要物质可合成的反应历程。________________
席夫碱类化合物G在催化、药物、新材料等方面有广泛应用。合成G的一种路线如图：
   
已知以下信息：① R1CHO+     
②1molB经上述反应可生成2molC，且C不能发生银镜反应
③D属于单取代芳烃，其相对分子质量为106
④核磁共振氢谱显示F苯环上有两种化学环境的氢
⑤RNH2+      +H2O
回答下列问题：
（1）由A生成B的化学方程式_______。
（2）由D生成E的化学方程式_______。
（3）G的结构简式______。
（4）F的同分异构体中含有苯环的还有____种（不考虑立体异构），其中核磁共振氢谱为4组峰，且面积比为6：2：2：1的是 ____（写出其中一种的结构简式）。
（5）由苯及化合物C经如下步骤：   ，可合成N-异丙基苯胺：反应条件2所选用的试剂为_____。I的结构简式为____。
高聚物H可用于光刻工艺中，作抗腐蚀涂层。下图是高聚物H的一种合成路线：

已知：①RCHO+R1CH2COOH+H2O
②由B生成C的反应属于加聚反应；
③D属于高分子化合物。
请回答下列问题：
(1)X生成Y的条件是___________。E的分子式为___________。
(2)芳香烃I与A的实验式相同，经测定I的核磁共振氢谱有5组峰且峰面积之比为1：1：2：2：2，则I的结构简式为___________。Y生成E的反应类型是___________。
(3)由CaC2生成A的化学方程式为___________。
(4)由E生成F的化学方程式为___________。
(5)G的同分异构体中，与G具有相同官能团的芳香族化合物还有___________种(不考虑立体异构)。
(6)参照上述合成路线，以对二甲苯和乙酸为原料(无机试剂任选)，设计制备 的合成路线。___________。

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