解答题-工业流程题 0.4 引用1 组卷133
科学家最近合成了VS2和VS相互交叉排列晶体.某小组以钒渣(含72%V2O3、14%Fe2O3、9%Al2O3、3%CuO,其余为有机杂质)为原料制备VS、VS2的流程如图:
已知部分信息如下:
含钒离子在溶液中的主要存在形式与pH的关系如表所示。
②常温下,几种难溶电解质的溶度积如表:
③NH4VO3是白色粉末,微溶于冷水。
回答下列问题:
(1)基态V原子的核外电子排布式为
______
,NH
的空间结构为
______
。
(2)“焙烧”时通入足量空气的目的是
_____
。
(3)“净化1”中,如果氨水过量,可能产生的影响是
______
(填一种)。
(4)若“净化1”中调节pH=5,则c(Cu2+)=
______
mol•L-1。
(5)“净化3”中洗涤NH4VO3时选择的洗涤剂为
______
(填“冷水”或“热水”)。
(6)当试剂A为CO时,写出“高温还原”时发生反应的化学方程式:
______
。
(7)某工厂用1吨该钒渣制备VS、VS2,若该工艺流程中,V的损耗率为5%,则最终得到产品的质量为
______
kg。[已知产品中n(VS):n(VS2)=1:1]。

已知部分信息如下:
含钒离子在溶液中的主要存在形式与pH的关系如表所示。
pH | 4~6 | 6~8 | 8~10 |
主要离子 | VO |
VO |
V2O |
②常温下,几种难溶电解质的溶度积如表:
难溶电解质 | Cu(OH)2 | Fe(OH)3 | Al(OH)3 | Mg(OH)2 |
Ksp | 2.2×10-22 | 4.0×10-38 | 1.3×10-33 | 1.8×10-11 |
③NH4VO3是白色粉末,微溶于冷水。
回答下列问题:
(1)基态V原子的核外电子排布式为
(2)“焙烧”时通入足量空气的目的是
(3)“净化1”中,如果氨水过量,可能产生的影响是
(4)若“净化1”中调节pH=5,则c(Cu2+)=
(5)“净化3”中洗涤NH4VO3时选择的洗涤剂为
(6)当试剂A为CO时,写出“高温还原”时发生反应的化学方程式:
(7)某工厂用1吨该钒渣制备VS、VS2,若该工艺流程中,V的损耗率为5%,则最终得到产品的质量为
22-23高三下·辽宁葫芦岛·阶段练习