工业上制备高纯硅涉及的反应。为阿伏加德罗常数的值。下列说法正确的是A．2gH2完全反应时转移的电子数为B．单晶硅中键的数目为C．的溶液中的数目为D．标准状况下，-组卷网

单选题适中0.65 引用2 组卷402

工业上制备高纯硅涉及的反应

。

为阿伏加德罗常数的值。下列说法正确的是

A．2gH₂完全反应时转移的电子数为	B．单晶硅中键的数目为
C．的溶液中的数目为	D．标准状况下，的分子数为

22-23高三下·湖北武汉·阶段练习

收藏试题下载试题加入试题篮

知识点：阿伏加德罗常数的求算22.4L/mol适用条件结合氧化还原反应知识与NA相关推算物质结构中化学键数目的计算答案解析【答案】很抱歉，登录后才可免费查看答案和解析！

类题推荐

N_A为阿伏加德罗常数的值。下列说法正确的是

A．常温常压下，48gO₂和O₃的混合气体含有的氧原子数为3N_A

B．标准状况下22.4LNe和NH₃的混合气体中含原子总数为2N_A

C．39gNa₂O₂晶体中含阴阳离子数目为2N_A

D．71gCl₂与铁完全反应生成FeCl₃时，反应转移的电子数为3N_A

N_A表示阿伏加德罗常数的值。下列叙述正确的是

A．标准状况下，1个氮气分子体积为

的NO₂与足量H₂O完全反应时转移的电子数为N_A

中含有电子数为N_A

D．标准状况下，

混合气体完全燃烧，消耗

分子数目为0.25N_A

设N _A为阿伏伽德罗常数的值，下列说法正确的是

A．0.1mol/LNa₂CO₃溶液1L所含阴离子数目小于0.1N _A

B．常温常压下，3.2gCH₄ 中含有的电子数为2N _A

C．1molCl ₂溶于足量的水中，反应时斯裂的Cl-Cl 键数目为N _A

D．标准状况下，11.2 LCH₃CH₂OH中含有的分子数为0.5N _A

组卷网是一个信息分享及获取的平台，不能确保所有知识产权权属清晰，如您发现相关试题侵犯您的合法权益，请联系组卷网