光刻胶化合物E是一种负型光致抗蚀剂(又称光刻胶)，大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。其合成方法如下：(1)用结构简式表示A，B，C，D的结构_______-组卷网

解答题-有机推断题适中0.65 引用1 组卷180

光刻胶
化合物E是一种负型光致抗蚀剂(又称光刻胶)，大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。其合成方法如下：

(1)用结构简式表示A，B，C，D的结构_______、_______、_______、_______。
(2)光刻制版时，光刻胶E在紫外光照射下生成F，溶解度下降。不见光的部分不反应，用溶剂溶解后得到影像。画出F的结构简式_______。

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知识点：酯的水解反应机理有机推断综合考查分子结构有机化学答案解析【答案】很抱歉，登录后才可免费查看答案和解析！

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靛蓝在我国生产和使用已有三千多年的历史，古代人们是用菘蓝和蓼蓝提取的，1870年德国化学家拜耳成功合成了靛蓝，并获得1905年度诺贝尔化学奖。下面是一种合成靛蓝的方法：

已知如下信息：

回答下列问题：
(1)靛蓝G中含氧官能团的名称是___________，A→B所用的试剂和反应条件为___________。
(2)E的化学名称是___________，由C生成D的反应类型为___________。
(3)F的分子式为___________。
(4)NBS的结构简式为

，写出B和NBS反应生成C的化学反应方程式：___________。
(5)有机化合物H是D的同分异构体，同时满足以下三个条件的H有___________种(不考虑立体异构体)。
①与FeCl₃溶液作用显紫色；②能发生银镜反应和水解反应；③含有—NH₂。
写出其中任意一种同分异构体与足量氢氧化钠溶液反应的化学反应方程式：___________。

同分异构体X、Y，分子式为C₃H₆O，¹HNMR指出X含1种不同环境的氢，Y含4种不同环境的氢，X的名称为_______；Y可使Br₂褪色，Y的名称为_______。X与丙二酸反应生成M (C₆H₈O₄)，M显酸性，pK_a=4.83，但并不含羧基，M的结构为_______。M分子中显酸性的氢是_______碳上的氢。Y经稀酸水解得到的有机产物结构简式为_______。

4，7—二氯喹啉(J)是喹啉类抗疟药物的重要中间体。如图为4，7—二氯喹啉的合成路线。

具有酸性。
回答下列问题：
(1)反应②中所需的试剂和条件为____。
(2)E中含氧官能团的名称为__，反应④的反应类型为___。
(3)D与足量氢气加成后的产物中手性碳的个数为___(注：连有4个不同的原子或基团的碳称为手性碳)。
(4)G与NaOH反应的化学方程式为___。
(5)I的结构简式为__。
(6)J的所有同分异构体在表征仪器中显示的信号(或数据)完全相同是___(填序号)。
a.质谱仪 b.元素分析仪 c.红外光谱仪 d.核磁共振仪
(7)有机物K是J的同分异构体，请写出一种满足下列条件的K的结构简式：___(不考虑立体异构)。
i.除苯环外不存在其他环状结构，且苯环上有3个取代基
ii.能使溴水褪色
i.分子中含—CN
iv.核磁共振氢谱中共有4组峰，且峰面积为1：1：1：2
(8)已知RNHR'+R"X

RN(R")R'(R、R"表示烃基，R'表示烃基或氢原子，X表示卤原子)，请设计以乙烯和苯为原料制备

的合成路线(无机试剂任选)___。

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