财联社2022年5月6日报道，我国容大感光公司与日本籍技术专家合作研发的光刻胶产品已在下游企业进行测试及生产销售。光刻胶又称光致抗蚀剂，主要应用于显示面板、集成电路和半导体分立器件等细微图形加工作业，其合成路线如图(部分试剂和产物略去)。

已知：①+R₂CH₂CHO (R₁、R₂为烃基或氢原子)
②R₂OH+HCl+
(1)A的名称为_______，羧酸X的结构简式为_______。
(2)E含有的官能团名称为_______，乙炔与X反应生成E的反应类型为_______。
(3)C物质可以发生的反应类型是_______。
a.加成反应     b.消去反应   c.还原反应     d.取代反应     e.缩聚反应
(4)D和G反应生成光刻胶的化学反应方程式为_______。
(5)写出满足下列条件的B的2种同分异构体：_______、_______。
①分子中含有苯环     ②能发生银镜反应     ③核磁共振氢谱峰面积之比为2∶2∶2∶1∶1
(6)结合已有知识和相关信息，写出以为原料制备的合成路线(无机试剂任选)：_______。