多选题 适中0.65 引用1 组卷109
三氟化氮(NF3)是常见的蚀刻剂,制备NF3的反应为4NH3+3F2
NF3+3NH4F,下列说法错误的是
A.NF3空间构型为三角锥形 |
B.Cu是过渡元素,位于元素周期表的ds区 |
C.NF3和 |
D.若有4molNH3被氧化,转移电子的物质的量为6mol |
21-22高二下·海南省直辖县级单位·阶段练习
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一定条件下,氨气和氟气可以发生反应:4NH3+3F2 → NF3+3NH4F,其中NF3分子空间构型与NH3相似。下列说法错误的是
A.NF3是由极性键构成的极性分子 |
B.氧化产物只有NF3,还原产物有NF3和NH4F |
C.4 mol NH3被氧化时转移电子的物质的量为6 mol |
D.NH4F属于离子晶体,既含有离子键又含有共价键 |
三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关该反应的说法正确的是
A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂 |
B.若1 mol NF3被还原,反应转移电子数为2NA |
C.若生成0.4 mol HNO3,则转移0.4 mol电子 |
D.氧化剂与还原剂的物质的量之比为2:1 |
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