光刻胶是芯片制造中必不可少的一种光敏材料，以下是以芳香烃A和乙炔为原料合成某光刻胶J( )的一种路线图。

已知：①RCHO
②(R、R₁为烃基或氢原子)
回答下列问题：
(1)A的名称是_______，A→B的反应类型是_______。
(2)E中官能团的名称是_______，J的分子式是_______。
(3)D→E反应的化学方程式是_______。
(4)G是不饱和酯，生成G时发生了加成反应，则X的结构简式为_______。
(5)符合下列条件D的同分异构体共有_______种。其中核磁共振氢谱图中有4组峰的结构简式为_______。
①遇溶液显紫色；②分子中有5个碳原子在一条直线上。
(6)设计以乙醇为原料制备1—丁醇的合成路线(无机试剂任选)。_______。