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单选题 适中0.65 引用22 组卷2338
习主席在2020年新年贺词中强调“5G商用加速推出,凝结着新时代奋斗者的心血和汗水,彰显了不同凡响的中国风采、中国力量”,制造芯片用到高纯硅,用SiHCl3与过量H2在1100~1200℃反应制备高纯硅的装置如下图所示(热源及夹持装置略去)。

已知: SiHCl3遇水H2O 强烈水解,在空气中易自燃。下列说法错误的是(     
A.装置 B 中的试剂是浓硫酸
B.实验时先打开装置C中分液漏斗的旋塞
C.装置C中的烧瓶需要加热,其目的是使滴入烧瓶中的SiHCl3气化
D.装置D不能采用普通玻璃管的原因是在反应温度下,普通玻璃管会软化
19-20高三·河南郑州·阶段练习
知识点:硅的制备物质制备的探究 答案解析 【答案】很抱歉,登录后才可免费查看答案和解析!
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