试题详情
单选题-单题 适中0.65 引用1 组卷305
半导体掺杂对于半导体工业有着举足轻重的作用,其中一种技术是将掺杂源物质与硅晶体在高温(800到1250摄氏度)状态下接触,掺杂源物质的分子由于热运动渗透进硅晶体的表面。下列说法中正确的是(  )
A.这种渗透过程是自发可逆的
B.这种渗透过程是外界作用引起的
C.温度越高越容易掺杂
D.温度升高后,掺杂源物质所有分子的热运动速率都增加
23-24高二下·江苏南通·阶段练习
知识点:影响扩散现象快慢的因素温度的概念以及与分子动能的关系热力学第二定律两种表述 答案解析 【答案】很抱歉,登录后才可免费查看答案和解析!