单选题-单题 容易0.94 引用5 组卷1648
光刻机是制作芯片的核心装置,主要功能是利用光线把掩膜版上的图形印制到硅片上。如图所示,DUV光刻机使用的是深紫外线,其波长为193nm。为提高投影精细图的能力,在光刻胶和投影物镜之间填充液体以提高分辨率,则与没加入液体相比,下列说法正确的是( )
A.深紫外线进入液体后传播速度变大 |
B.传播相等的距离,深紫外线在液体中所需的时间更长 |
C.深紫外线光子的能量在液体中更大 |
D.深紫外线在液体中更容易发生衍射,能提高分辨率 |
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光刻机是制作芯片的核心装置,主要功能是利用光线把掩膜版上的图形印制到硅片上。如图所示,为提高分辨率,科研人员在投影物镜与光刻胶之间加入浸没液体,与没加入液体相比,正确的是( )
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A.光波在液体中的频率变小 |
B.光子在液体中的能量变大 |
C.光波在液体中的波长变小 |
D.光波在液体中的传播速度不变 |
光刻机又名“掩模对准曝光机”,是制造芯片的核心装备,它是利用光源发出的紫外线,将精细图投影在硅片上,再经技术处理制成芯片。为提高光刻机投影精细图的能力,在光刻胶和投影物镜之间填充液体,提高分辨率,如图所示。则加上液体后,下列说法中正确的是( )
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A.紫外线进入液体后光子能量增加 |
B.紫外线在液体中的波长比在真空中短 |
C.传播相等的距离,紫外线在液体中比在真空中的时间长 |
D.紫外线在液体中比在空气中更容易发生衍射 |
光刻机利用光源发出的紫外线,将精细图投影在硅片上,再经技术处理制成芯片。为提高光刻机投影精细图的能力,在光刻胶和投影物镜之间填充液体,提高分辨率,如图所示。则加上液体后( )
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A.紫外线进入液体后光子能量增加 |
B.传播相等的距离,在液体中所需的时间变短 |
C.紫外线在液体中比在空气中更容易发生衍射,能提高分辨率 |
D.紫外线在液体中波长比真空中小 |
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