单选题-单题 适中0.65 引用3 组卷409
光刻机是制造芯片的核心装备,如图甲所示,它采用类似照片冲印的技术,通过曝光去除晶圆表面保护膜的方式,先将掩膜版上的精细图形印制到硅片上,然后将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后便形成电路。某光刻机使用的是真空中波长为
的极紫外线光源(
),如图乙所示,在光刻胶和投影物镜之间填充了折射率为1.8的液体用于提高光刻机投影精细图的能力,则该紫外线由真空进入液体后( )
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A.光子能量减小 | B.传播速度不变 |
C.波长变为 | D.更容易发生明显衍射 |
2023·贵州·一模
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光刻机又名“掩模对准曝光机”,是制造芯片的核心装备,它是利用光源发出的紫外线,将精细图投影在硅片上,再经技术处理制成芯片。为提高光刻机投影精细图的能力,在光刻胶和投影物镜之间填充液体,提高分辨率,如图所示。则加上液体后,下列说法中正确的是( )
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A.紫外线进入液体后光子能量增加 |
B.紫外线在液体中的波长比在真空中短 |
C.传播相等的距离,紫外线在液体中比在真空中的时间长 |
D.紫外线在液体中比在空气中更容易发生衍射 |
光刻机利用光源发出的紫外线,将精细图投影在硅片上,再经技术处理制成芯片。为提高光刻机投影精细图的能力,在光刻胶和投影物镜之间填充液体,提高分辨率,如图所示。则加上液体后( )
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A.紫外线进入液体后光子能量增加 |
B.传播相等的距离,在液体中所需的时间变短 |
C.紫外线在液体中比在空气中更容易发生衍射,能提高分辨率 |
D.紫外线在液体中波长比真空中小 |
光刻机利用光源发出的紫外线,将精细图投影在硅片上,再经技术处理制成芯片。为提高光刻机投影精细图的能力,在光刻胶和投影物镜之间填充液体,提高分辨率,如图所示。若浸没液体的折射率为
,当不加液体时光刻胶的曝光波长为
,则加上液体后( )
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![](https://img.xkw.com/dksih/QBM/editorImg/2023/5/28/6ae22ae2-4e26-40cc-847b-d89668ce2295.png?resizew=230)
A.紫外线进入液体后波长变短,光子能量增加 |
B.传播相等的距离,在液体中所需的时间变短 |
C.紫外线在液体中比在空气中更容易发生衍射,能提高分辨率 |
D.在液体中的曝光波长约为117mm |
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