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单选题-单题 适中0.65 引用3 组卷409
光刻机是制造芯片的核心装备,如图甲所示,它采用类似照片冲印的技术,通过曝光去除晶圆表面保护膜的方式,先将掩膜版上的精细图形印制到硅片上,然后将晶圆浸泡在腐化剂中,失去保护膜的部分被腐蚀掉后便形成电路。某光刻机使用的是真空中波长为的极紫外线光源(),如图乙所示,在光刻胶和投影物镜之间填充了折射率为1.8的液体用于提高光刻机投影精细图的能力,则该紫外线由真空进入液体后(  )
   
A.光子能量减小B.传播速度不变
C.波长变为D.更容易发生明显衍射
2023·贵州·一模
知识点:折射率的波长表达式和速度表达式光发生明显衍射的条件光子能量的公式 答案解析 【答案】很抱歉,登录后才可免费查看答案和解析!
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